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Atonarp 프로세스 제어 스펙트럼 Aston™
상해 백동 대리 일본 Atonarp 프로세스 제어 질량 분광기 Aston, 분자 감지 기술을 사용하여 반도체 공정 중 ALD, CVD, 식각, ALE 및 챔버 대량 생산 중의 가스 탐지 분석, 배기가스 온라인 모니터링, 진단, 반도체 공정 제어에 솔루션 제공, 반도체
제품 상세 정보

Atonarp 프로세스 제어 스펙트럼 Aston™ 기술 사양:

실시간 프로세스 제어를 위한 공통 도구, 내식성 가스, 응축 방지
반도체 제조의 분자 분석 원위치 플랫폼, 실시간, 조작 가능한 데이터 제공
플라즈마 이온화 소스, 필라멘트 없음, 내구성 향상
대량 생산 도구와 완벽하게 통합
Aston™ 프로세스 스펙트럼 분석기강력한 플랫폼으로서, 광각, 전매체 및 전도성 식각 및 퇴적, 챔버 청결, 챔버 일치 및 소해를 포함하여 다양한 전통적인 도구를 대체할 수 있습니다.

Aston™ 프로세스 스펙트럼 분석기기술 매개변수

유형

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

모델

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

품질 분리

4단봉

진공 시스템

분자 펌프

분자 펌프
격막펌프

분자 펌프

분자 펌프
격막펌프

분자 펌프

분자 펌프
격막펌프

검측기

FC /SEM

품질 범위

2-285

2-220

2-285

해상도

0.8±0.2

테스트 제한

0.1 PPM

작동 온도

15-35“℃

전력

350 W

무게

15 kg

치수

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

Atonarp Aston 응용: 반도체 공정 과정 통제 및 최적화의 중대한 발전, 반도체 제조 공정의 생산량, 처리량과 효율 향상
Aston™ 반도체 제조 및 산업 프로세스 제어 응용 프로그램에서 가스 모니터링 및 제어를 위해 설계되고 견고하고 내구성이 강한 새로운 컴팩트형 온라인 질량 분광기로서, 높은 정량 정밀도와 실시간성은 생산 안정성 및 신뢰성과 결합됩니다. 예를 들어 반도체 dry pump 배기가스 탐지 분석, 온라인 모니터링, 진단.
CVD / ALD: 산화물 - 질소화물 변환 및 성분 분석
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching: 추적자 식별
Aston™ 半导体在线质谱仪应用

더 많은 정보가 필요한 경우Atonarp Aston™ 온라인 질량 분광기자세한 내용 또는 토론은 다음 연락처를 참조하십시오.
상해 백동: 엽양 대만 백동: 미스 왕
T: +86-21-5046-3511 ext 109 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267 (위챗 동일) M: +886-939-653-958

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