고온 가열대 600도, 800도 맞춤형 기본 소개: 고온 가열대 접착제 굽는 기계 (분체) 적용 범위: 반도체 실리콘 조각, 적재 볼륨, 웨이퍼, 기판, ITO 전도 유리 등 공정에 적용되며, 제판의 표면을 코팅한 후, 박막을 건조하고 고화한다.광공업기업, 과학연구, 교육 등 단위에서 노화, 온도시험 및 건조, 베이킹과 열처리 등을 진행하여 생산, 과학연구, 교육용으로 사용할 수 있다.

고온 가열대 800도 맞춤형 성능 특징

1.본 태블릿 열대 덮개, 덮개의 역할은 주로 빛을 피하고 먼지를 가리며 어느 정도의 보온 효과에 사용됩니다.

2.작동 온도는 실내 온도-800도, 프로그램 온도 제어, 선형 경도 또는 플랫폼 온도 제어 모두 가능, 프로그램 내장, 별도의 컴퓨터 필요 없음, 온도 제어 정밀도 ± 1% ℃

3.고온 가열 플랫폼은 박스 디자인으로 가열 테이블 외부에 온도 격리 상자가 있어 열 손실과 빠른 가열 시간을 확보한다

4.격리상자와 가열판 사이에는 26mm의 틈이 있어 평면 샘플에 대한 고정밀 집약 가열을 보장하는 동시에 사용자가 케이스에 안전하게 접촉할 수 있도록 보장한다.

고온 가열대 800도 맞춤형 기술 파라미터

1. 조작이 간단하고 기능이 실용적이며 외형이 작아 직접 장갑상자에 넣어 조작할수 있다.

2. 가열 패널의 균일성이 좋고, 온도 제어 정밀도가 높으며, 쉽게 변형되지 않고, 부식에 강하며, 동시에 온도 상승이 빠르고, 30개 프로그램 구간의 온도 제어, 온도 제어 정확성 등의 장점을 가지고 있다.

3. 고객의 요구에 따라 각종 온도, 사이즈, 기능의 가열대를 주문 제작할 수 있다.

4. 패널은 309S 특수 스테인리스강을 사용하여 부식에 강하고 변형되지 않는다

5. 가열방식: 스위스는 발열사를 수입하여 산화에 매우 강하고 수명이 크게 향상되었다.

6, 전압: 220V 전류 50Hz-60Hz

7. 제품 크기: 350X 300 X 250(mm),

8, 가열 영역: 200X200(mm)

9, 유효 항온 범위: 200X200mm

10. 온도조절범위: 0-800 ℃

11. 온도조절정밀도: ±0.1 ℃

12, 온도 측정 정밀도: ± 2 ℃

13, 시간 설정: 1min-999.9min

14, 전력: 4KW.(20A)

고온 가열대 800도 맞춤형 사용 설명

가열대 연결

가열대를 사용하기 전에 먼저 전원 코드를 콘센트에 꽂고 가열판의 연결 플러그를 전원 콘센트에 꽂아야 합니다.케이블을 연결할 때는 콘센트의 전압이 전기 제품의 정격 전압과 일치하는지, 접지선의 연결이 견고하는지 주의해야 한다.

고온 플러스 플랫폼 오픈 스위치

가열판을 가운데에 놓고 스위치를 누르면 가열대가 작동한다.작업 중에는 스위치의 다이얼을 조절하여 가열판의 온도를 조절할 수 있다.온도가 필요한 온도에 도달하면 다이얼을 적절한 위치로 조절하여 일정한 온도 환경을 유지할 수 있다.

가열하여 온도를 조절하다.

가열판의 온도는 다이얼을 통해 조절할 수 있는데, 다이얼은 일반적으로 두 개가 있는데, 하나는 온도의 높낮이를 조절하는 다이얼이고, 하나는 가열판의 작업 시간을 조절하는 다이얼이다.온도를 조절할 때 실험수요에 따라 온도의 높낮이와 지속시간을 조절할수 있다.

사용 시 고려 사항

1. 가열판은 손을 데지 않도록 장갑을 설치하고 분해할 때 보호해야 한다.

2.가열판 표면은 반드시 깨끗하게 청소하여 실험 오차가 생기지 않도록 해야 한다.

3. 가열판은 작업과정에 지나치게 가열하여 시료에 부정적인 영향을 주지 않도록 해야 한다.

4. 가열판을 교체해야 할 경우 전원 코드를 뽑고 전문가에게 교체하십시오.

5. 히터는 장기간 사용을 중지할 때 전원 코드를 뽑아 부품에 손상이 생기지 않도록 해야 한다.

본고의 소개를 통해 당신은 이미 가열대의 사용방법과 주의사항을 장악하여 실험작업을 더욱 잘 진행할수 있을것이라고 믿습니다.사용 과정에서 항상 신중하고 세심해서 실험 결과의 오차를 초래하지 않도록 해야 한다.

고온 가열대 800도 응용 범위:

600도 정밀 항온 고온 가열대 접착제 굽는 기계 (분체) 적용 범위: 반도체 실리콘 조각, 적재 유리 조각, 웨이퍼, 기판, ITO 전도성 유리 등 공정에 적용되며, 제판의 표면을 코팅한 후 박막을 건조하고 고화한다.광공업기업, 과학연구, 교육 등 단위에서 노화, 온도시험 및 건조, 베이킹과 열처리 등을 진행하여 생산, 과학연구, 교육용으로 사용할 수 있다.