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제품 상세 정보
이온 연마기 ArBlade 5000
ArBlade 5000은 히타치 이온 연마기의 고성능 모델입니다.
그것은 초고속 단면 연마를 실현했다.
고효율 단면 가공 기능으로 선글라스 단면을 관찰할 때 샘플 가공을 더욱 간단하게 한다.
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특징
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사양
특징
단면 연마 속도 최대 1mm/h*1！
새로 개발한 PLUSII 이온총은 고전류 밀도 이온 빔을 발사하여 대폭 향상되었다*2연마 속도를 높였습니다.
- *1
- Si 돌출 가림막 가장자리 100 µm, 1시간 최대 가공 깊이
- *2
- 연마 속도는 자사 제품(IM4000PLUS:2014 생산)의 2배
단면 연마 결과 비교
(견본: 샤프심, 연마 시간: 1.5시간)
자사 제품 IM4000PLUS
ArBlade 5000
최대 단면 연마 폭은 8mm입니다!
광역 단면 연마 시료 받침대를 사용하여 가공 너비가 8mm에 달해 전자 부품 등의 연마에 매우 적합하다.
복합형 연마기
IM4000 시리즈 복합형 (단면 연마, 평면 연마) 이온 연마기가 호평을 받고 있다.
필요에 따라 샘플을 전처리 할 수 있습니다.
단면 연마
가공 또는 기계 연마로 처리하기 어려운 소프트 또는 복합 재료의 단면 제작
평면 연마
기계 연마 후 샘플의 정수 또는 표면 청결
단면 연마 가공 다이어그램
평면 연마 가공 설명도
사양
| 공통 | |
|---|---|
| 가스 사용 | Ar(아르곤) 가스 |
| 가속전압 | 0～8 kV |
| 단면 연마 | |
| 가장 빠른 연마 속도(재료 Si) | 1 mm/hr*1이상 1 mm/hr 포함*1 |
| 최대 연마 폭 | 8 mm*2 |
| 최대 샘플 크기 | 20(W) × 12(D) × 7(H) mm |
| 샘플 이동 범위 | X ±7 mm、Y 0~+3 mm |
| 이온 빔 간헐 가공 기능 | 표준 구성 |
| 스윙 각도 | ±15°、±30°、±40° |
| 평면 연마 | |
| 최대 가공 범위 | φ32 mm |
| 최대 샘플 크기 | φ50 × 25(H) mm |
| 샘플 이동 범위 | X 0～+5 mm |
| 이온 빔 간헐 가공 기능 | 표준 구성 |
| 회전속도 | 1 r/m、25 r/m |
| 기울기 각도 | 0～90° |
- *1
- Si 돌출 가림막 가장자리 100 µm, 1시간 최대 가공 깊이
- *2
- 광역 단면을 사용하여 시료 받침대를 연마하는 경우
옵션
| 프로젝트 | 내용 |
|---|---|
| 높은 내마모성 커버 | 표준 가림막보다 최대 2배(코발트 제외)의 내마모성 가림막 |
| 가공 모니터링용 현미경 | 확대 배율 15 × ~ 100 × 쌍목형, 삼목형(CCD 추가 가능) |
관련 제품 분류
- 필드 발사 스캐닝 전자현미경(FE-SEM)
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